Umfassende Anleitung zum metallischen Siliziumpulver
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Umfassende Anleitung zum metallischen Siliziumpulver

Metallisches Siliziumpulver, auch als industrielles Silizium oder kristallines Siliziumpulver bekannt, ist eine fein geteilte Form von Silizium (SI) mit Reinheit von 95% bis 99,9999% (6N). Es wird durch Zerkleinern, Schleifen oder chemisch verarbeitende Silizium mit hoher Purity erzeugt.
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Produkteinführung

Herstellungsprozess

 

A. Rohstoffe:

Quarz (SiO₂) als primäre Quelle

Kohlenstoffreduktion (Erdölkoke, Kohle, Holzspäne)

B. Produktionsmethoden:

Karbothermie Reduktion (elektrischer Lichtbogenofen):

SiO₂ + C → Si + Co₂ (bei 1, 800-2, 000 Grad)

Erzeugt metallurgische Silizium ({98-99% Reinheit)

Reinigungsprozesse:

Chemische Dampfabscheidung (CVD):Für elektronische Note

Zonenverfeinerung:Ultrahohe Reinheit (99,9999%+)

Hydrochlorierung:Produziert Trichlorsisilan (sihcl₃) mittler

Pulverproduktionstechniken:

Mechanisches Schleifen (für grobe Pulver)

Jet Milling (für Fein-\/Ultrafeinepulver)

Plasma -Zerstörung (für sphärische Pulver)

Chemische Synthese (für Nanopulver)

silicon metal powder

Technische Spezifikationen

 

A. Chemische Zusammensetzung:

Grad Si -Inhalt Fe al Ca. Andere Verunreinigungen
Metallurgisch 98-99% Weniger als oder gleich 0. 5% Weniger als oder gleich 0. 5% Weniger als oder gleich 0. 3% Weniger als oder gleich 0. 5%
Chemikalie 99-99.5% Weniger als oder gleich 0. 4% Weniger als oder gleich 0. 4% Weniger als oder gleich 0. 2% Weniger als oder gleich 0. 3%
Elektronisch Größer als oder gleich 99,9999% Weniger als oder gleich 1 ppm Weniger als oder gleich 1 ppm Weniger als oder gleich 1 ppm B\/p weniger als oder gleich 0. 1PPM

B. Physikalische Eigenschaften:

Partikelgröße: 10nm -500 μm (anpassbar)

Schüttdichte: 0. 5-1. 5 g\/cm³

Oberfläche: 1-50 m²\/g (Wette)

Morphologie: Winkel, kugelförmig oder porös

C. Branchenstandards:

GB\/T 2881 (China)

ASTM C989 (USA)

Semi F57 (Semiconductor -Grad)

ISO 9286 (international)

silicon metal powder

Hauptanträge

 

A. Metallurgie (60% der weltweiten Nachfrage):

Desoxidisator in der Stahlproduktion

Legierungsmittel für Aluminiumlegierungen (Automobilräder, Motorblöcke)

Ferrosilicon -Produktion

B. Elektronik (High-Purity-Noten):

Halbleiterwafer (300 mm+ Durchmesser)

Photovoltaikzellen (Mono\/Polykristalline Silizium)

SOI-Technologie (Silicon-on-IN-INSORSOLER)

C. Chemische Industrie:

Silikoneproduktion (Dichtungsmittel, medizinische Implantate)

Silane (Kopplungsmittel für Verbundwerkstoffe)

Fumed Kieselsäure (Verstärkungsfüller)

D. Energiespeicher:

Lithium-Ionen-Batterie-Anoden (10-20% Si\/C-Kompositen)

Festkörperbatterieforschung

E. Fortgeschrittene Materialien:

Siliziumkarbidkeramik (Schleifmittel, Rüstung)

Feffrionen (Stahlköpfe, Ofenmöbel)

Metallmatrixverbundwerkstoffe (Luft- und Raumfahrtkomponenten)

F. aufstrebende Verwendungen:

3D -Druckpulver

Quantenpunktsynthese

Wasserstoffspeichermaterialien

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