Siliziumnitrid

Siliziumnitrid ist eine Hochtemperatur-Strukturkeramik mit außergewöhnlicher Festigkeit und Thermoschockbeständigkeit. Es kann auch als elektronisches Dünnschichtmaterial für Anwendungen wie optische Beschichtungen, Isolierschichten und Diffusionsbarrieren verwendet werden. Siliziumnitride (Si₃N₄) zeichnen sich durch eine hervorragende Kombination von Materialeigenschaften aus. Sie sind fast so leicht wie Siliziumkarbid (SiC), sind aber aufgrund ihrer Mikrostruktur hervorragend temperaturwechselbeständig und aufgrund ihrer hohen Bruchzähigkeit resistent gegen Stöße und Erschütterungen.

Eigenschaften von Siliziumnitrid (Si3N4)

Sehr geringe Dichte (3,21 g/cm).³)

Sehr hohe Bruchzähigkeit (7 MPam).^1/2)

Gute Biegefestigkeit (850 MPa)

Sehr gute Thermoschockbeständigkeit: Hohe thermische Belastungsparameter (569 K)

Maximale Betriebstemperatur in oxidierender Atmosphäre: 1.300 Grad

Maximale Betriebstemperatur in neutraler Atmosphäre: 1.600 Grad

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