Hochwertiger nitridgebundener Siliziumkarbidstein
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Hochwertiger nitridgebundener Siliziumkarbidstein

Hochwertiger nitridgebundener Siliziumkarbidstein für Halbleiterwafer ist ein hochwertiger feuerfester Stein, der aus einer Kombination von Siliziumkarbid- (SiC) und Siliziumnitridkörnern (Si3N4) hergestellt wird.
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Produkteinführung
 
Produktbeschreibung

Hochwertiger nitridgebundener Siliziumkarbidstein für Halbleiterwafer ist ein hochwertiger feuerfester Stein, der aus einer Kombination von Siliziumkarbid- (SiC) und Siliziumnitridkörnern (Si3N4) hergestellt wird. Der Stein wurde sorgfältig entwickelt, um eine hervorragende thermische Stabilität, außergewöhnliche mechanische Festigkeit und eine hervorragende Beständigkeit gegen chemische und thermische Schocks zu bieten, was ihn zur idealen Wahl für kritische Anwendungen in der Halbleiterindustrie macht.

 

Spezifikation

 

Marke
Eigenschaften

TC SZ

TC MZ

TC BI

TC TR

Scheinbare Porosität (Prozent)

7

8

8

9

Schüttdichte (g/cm3)

3.00

2.98

2.98

2.93

Kaltdruckfestigkeit (MPa)

55

50

45

45

Thermische lineare Ausdehnung (Prozent) bei 1,000 Grad

0.58

0.55

0.55

0.52

Refractoriness Under Load ( degree ) @0.2MPa

1750

1700

1700

1650

Chemische Analyse (Prozent)

Al2O3

72

68

67

65

Sic

11

10

10

10

FC

13

12

11

10

Hauptanwendungen

Torpedo und Eisenkelle

 

Produktanwendungen:Hochwertiger nitridgebundener Siliziumkarbidstein für Halbleiterwafer wurde speziell für verschiedene Anwendungen in der Halbleiterindustrie entwickelt, darunter:

  • Waferproduktion:Wird bei der Herstellung von Halbleiterwafern für integrierte Schaltkreise und Mikrochips verwendet.
  • Epitaktisches Wachstum:Wird in epitaktischen Wachstumsreaktoren zur Abscheidung dünner Halbleiterfilme eingesetzt.
  • Diffusionsöfen:Wird in Hochtemperaturdiffusionsprozessen verwendet, um Dotierstoffe in Halbleitermaterialien einzubringen.
  • Wafer-Glühen:Wird in Glühprozessen eingesetzt, um die elektrischen und strukturellen Eigenschaften von Wafern zu verbessern.

 

ZHENAN REFRACTORIES CO., LIMITED Werkstatt

 

 

 

High Quality Nitride Bonded Silicon Carbide BrickHigh Quality Nitride Bonded Silicon Carbide Brick

 

 

ZHENAN REFRACTORIES CO., LIMITEDHochwertiger nitridgebundener Siliziumkarbidstein ist ein zuverlässiges und unverzichtbares Material für die Halbleiterindustrie, das eine präzise und effiziente Waferverarbeitung gewährleistet und gleichzeitig eine langlebige Leistung und hervorragende chemische Beständigkeit bietet. Seine konstante Leistung und thermische Stabilität machen es zur bevorzugten Wahl für kritische Anwendungen in der Halbleiterwaferherstellung.

Häufig gestellte Fragen

F: Erheben Sie eine Gebühr für die Muster?

A: Gemäß unserer Firmenpolitik sind die Muster kostenlos, wir berechnen nur die Frachtgebühr. Und wir erstatten Ihnen die Frachtgebühr bei der nächsten Bestellung.

 

F: Können Sie nach dem Design des Kunden produzieren?

A: Sicher, wir sind professionelle Hersteller.

 

 

F: Wie hoch ist Ihre Produktionskapazität und Ihr Liefertermin?

A: 3000MT/Monat&Versand innerhalb von 20 Tagen nach Zahlung.

 

F: Ist der Preis verhandelbar?

A: Ja, wenn Sie Fragen haben, können Sie sich jederzeit an uns wenden. Und für Kunden, die ihren Markt vergrößern möchten, werden wir unser Bestes tun, um sie zu unterstützen.

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